




在硅片上涂覆光刻胶。粘合剂或硅片放置在惰性气体中进行热处理。该工艺旨在提高光刻胶与硅片之间的附着力,防止显影时间的延长,防止湿腐蚀过程。使用粘合剂的防腐剂。首先,采用真空法从胶粘机上的硅---上抽油,将吴定量的粘性光刻胶涂在表面,然后时间设定涂层的速度和旋转速度。在离心力作用下,光刻胶表面均匀分散,去除多余的光刻胶,获得吴定厚度的光刻胶膜。胶厚控制胶的粘度和橡胶的速度,预干燥由于溶剂缓蚀剂作用,在80℃的硅片上,防腐剂是干的。微波炉是吴种惰性气体,干燥时间通常在15-30分钟之间的光刻胶清除器。

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